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氮化硅的制备及应用技术加工制作技术资料配方方法
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本技术资料简单摘要:D3069

 
 

 

 
 

 

 
1. 纳米级氮化硅复合材料发热体及制作工艺
2. P型信道氮化硅只读存储器的擦除方法
3. 一种生产氮化硅系合金的新方法
4. 一种用于高纯粉体分级的氮化硅陶瓷分级叶轮
5. 氮化硅陶瓷导轮
6. 交直流两用节能防静电恒温氮化硅电烙铁
7. 氮化硅高温热表面点火器
8. 流化床直接制取氮化硅的装置
9. 氮化硅陶瓷发热体
10. 氮化硅加热式热水器
11. 一种氮化硅电热元件
12. 平板氮化硅薄膜PECVD沉积系统
13. 用于太阳电池片氮化硅膜致密性测量的载片
14. 一种带熄火保护功能的氮化硅点火器
15. 一种纳米级氮化钛-氮化硅复合材料的制备方法
16. 基底/氧化硅/氮化硅/氧化硅/硅组件的制造方法
17. 氮化硅只读存储器组件的制造方法
18. 防止天线效应的氮化硅只读存储器组件的结构
19. 氮化硅只读存储器的结构与制造方法
20. 低压燃烧合成氮化硅或氮化硅铁的方法及设备
21. 利用原子层沉积法形成氮化硅间隙壁的方法
22. 密封氮化硅过滤器的方法和密封组合物
23. 氮化硅只读存储器的制造方法
24. 氮化硅只读存储器的制造方法
25. 等离子体化学气相法批量生产氮化硅粉体转相工艺及系统
26. 氮化硅内存的制造方法
27. 在氮化硅层上形成氮氧化硅层的方法
28. 在栅极蚀刻处理后用湿式化学方法去除氧氮化硅材料
29. 用燃烧合成高α相超细氮化硅粉体及氮化硅晶须的方法
30. 导电性氮化硅复合烧结体及其制备方法
31. 超薄氮化硅/氧化硅栅极介电层的制造方法
32. 氮化硅存储器件及其制造方法
33. 提高硼硅玻璃膜及氮化硅膜之间粘合强度的方法
34. 氮化硅膜、半导体装置及其制造方法
35. 氮化硅膜制作方法及氮化硅膜制作装置
36. 一种用于炼铁高炉的氮化硅刚玉质浇注耐火材料
37. 降低氮化硅的湿蚀刻速率的方法
38. 氮化硅只读存储器的制造方法
39. 利用图案化金属结构增加氮化硅表面粘着度的方法
40. P型氮化硅只读存储器器件的初始化方法
41. 等离子体化学气相法制备高α相氮化硅粉体的工艺
42. 具有保护二极管的氮化硅只读存储器结构及其操作方法
43. 相对于未掺杂二氧化硅和氮化硅能选择性蚀刻掺杂二氧化硅的蚀刻剂,其使用方法和形成的结构
44. 低介电氮化硅膜及其制造方法和半导体器件及其制造工艺
45. 氮化硅基复合烧结体及其生产方法
46. 具有高疲劳寿命的氮化硅轴承球
47. 氮化硅烧结体及其制造方法
48. 氮化硅电路板
49. 氮化硅的自研磨
50. 高导热性氮化硅烧结体、其制造方法和压接结构体
51. 高热导率氮化硅电路衬底和使用它的半导体器件
52. 氮化硅陶瓷、制备它们的硅基组合物以及它们的制备工艺
53. 氮化硅多孔体及其制造方法
54. 氮化硅陶瓷电路基片及使用该陶瓷基片的半导体器件
55. 高强度氮化硅多孔体及其制造方法
56. 高耐磨性高韧性氮化硅基陶瓷刀具材料
57. 重烧结氮化硅陶瓷制备方法
58. 氮化硅工程陶瓷烧结新工艺
59. 含有氧化钇、_氧化镧和氧化铝的氮化硅陶瓷及制造方法
60. 高韧性氮化硅基陶瓷刀具材料及其制造方法
61. 氮化硼纤维补强反应烧结氮化硅陶瓷
62. 制造氮化硅粉末的方法
63. 无压烧结高韧性氮化硅基陶瓷材料及其制造方法
64. 通过碳热还原制成的陶瓷用氮化硅粉末及其制造工艺
65. 含硅-氮和硅-硅键的共聚物和热解该共聚物得到的聚碳硅氮烷及该聚碳硅氮烷制备-碳氮化硅的应用
66. 一种金属与玻璃封接的氮化硅模具和模具的制造方法
67. 氮化硅/氮化硼复合材料及其制造方法
68. 以氮化物作烧结助剂的氮化硅基陶瓷
69. 高致密氮化硅反应烧结体的快速制备方法
70. 氮化硅粉末的制造方法及设备
71. 含氯的硅氮烷聚合物,其制备方法,由其可制备的含氮化硅陶瓷材料及材料的制备
72. 聚氢化氯硅氮烷、其制备方法、由其制备的含氮化硅的陶瓷材料及其制备
73. 多取代含氯硅氮烷聚合物,其制备方法,由此可制得的含氮化硅的陶瓷材料及其制备
74. 聚(,-亚乙基桥接氯硅氮烷)、它的制备方法,由它可制备含氮化烷的陶瓷材料以及含氮化硅的陶瓷材料
75. 聚氯硅氮烷,其制备方法,由其制备的含氮化硅陶瓷材料及该材料的制备
76. 可烧结陶瓷粉及其制备方法以及用该陶瓷粉制造的氮化硅陶瓷及其制造方法和用途
77. 一种断裂韧性高的自增强氮化硅陶瓷及其制备方法
78. 双管加压制备氮化硅超细粉的方法
79. 晶须增韧补强氮化硅复相陶瓷刀具材料
80. 晶须补强氮化硅复合材料制造方法
81. 低温光化学气相淀积二氧化硅、氮化硅薄膜技术
82. 反应结合氮化硅体浸渍工艺
83. 高性能β-氮化硅晶晶须的制备方法
84. 一种新的激光制氮化硅粉末的方法及装置
85. 氮化硅基复合陶瓷及其活塞顶
86. 一种自增强氮化硅陶瓷体及其制备方法
87. 高断裂韧性自增强氮化硅陶瓷及其制备该陶瓷的方法
88. 碳化硅-氮化硅复相梯度材料的制备
89. 用无压或低压气体烧结法制备的致密自增强氮化硅陶瓷
90. 具有结晶晶界相的自增强氮化硅陶瓷及制备方法
91. 由二氧化硅碳氮共渗制备氮化硅的方法以及无晶须的颗粒氮化硅
92. 碳氮共掺法制备氮化硅的连续工艺和制得的氮化硅
93. 中间包水口用氮化硅结合碳化硅耐火材料
94. 高致密、低气孔率氮化硅-碳化硅-氧化物系统耐火材料
95. 无缺陷氮化硅晶须的制备
96. 氮化硅电热塞中氮化硅与金属的一步活性连接方法
97. 纳米非晶原位合成氮化硅晶须
98. 半石墨化碳氮化硅材料及其生产方法
99. 氮化硅烧结体的制造方法
100. 一种生产高强度氮化硅结合碳化硅制品的方法
101. 氮化硅陶瓷及其成型工艺
102. 纳米碳化硅-氮化硅复相陶瓷及其制备方法
103. 具至少一种氮化硅或氧氮化硅基薄层的透明基体及其制法
104. 使用二(叔丁基氨基)硅烷淀积二氧化硅和氧氮化硅
105. 氮化硅材料固相有机前驱体除氧增强的方法
106. 氮化硅电梯安全制动器
107. 从氧化硅膜选择蚀刻氮化硅膜的方法
108. 一种制造高纯度超细氮化硅的方法及设备
109. 氮化硅发热体及其制造方法
110. 添加氧化镁及稀土氧化物的烧结氮化硅陶瓷
111. 去除氮化硅保护层针孔的方法
112. 氮化硅车用电热杯
113. 一种超高韧性氮化硅基复合材料的制备方法
114. 碱性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺
115. 酸性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺
116. 制造氧氮化硅的方法
117. 自蔓延高温合成氮化硅铁粉末的制备方法
118. 金属间介质半导体制造中氟硅玻璃薄膜的氧氮化硅盖层
119. 超细氮化硅微粉气相合成新工艺
120. 碳化硅晶须强韧化氮化硅基陶瓷轧辊材料的制造方法
121. 一种提高氮化硅基陶瓷性能/价格比的方法
122. 氮化硅用作医用生物材料的组合物、生产和应用
123. 自蔓延高温合成制备β-氮化硅晶须的方法
124. 一种氮化硅水基浓悬浮体的制备方法
125. 氮化硅粉、其烧结体、基板、及由此的电路板和热电元件模块
126. 用电子回旋共振微波等离子体制备超薄氮化硅薄膜
127. 一种低压燃烧合成高α相氮化硅粉体的方法
128. 氮化硅陶瓷及其制备工艺
129. 除去氮化硅膜的方法
130. 具有厚氧化硅和氮化硅钝化层的光电池及其制造方法
131. 一种制备螺旋状氮化硅陶瓷晶须的方法
132. 利用溶剂热反应低温合成氮化硅纳米材料的方法
133. 氮化硅陶瓷发热体的微波炉烧结制备方法及专用设备
134. 一种利用硫辅助反应低温制备氮化硅纳米棒的方法
135. 含有α-氮化硅晶须的氮化硅水基流延浆料及其制备方法
136. 增加PECVD氮化硅膜层的压缩应力的方法
137. 氮化硅点火器
138. 一种氮化硅彩虹玻璃及其制备方法
139. 一种方镁石氮化硅复合耐火制品及制备方法
140. 刚玉-氮化硅-碳化硅复合浇注料
141. 氮化硅与碳化硅制造热镀锌槽的方法
142. 测量氧化硅层-氮化硅层-氧化硅层电学厚度的方法
143. 荧光氮化硅基纳米线及其制备方法
144. 通过后PECVD沉积UV处理增加氮化硅膜的拉伸应力的方法
145. 活塞环表面涂覆氮化硅膜层的方法
146. 自蔓燃无污染快速制备高α相氮化硅粉体的方法
147. 一种透明β-氮化硅陶瓷及其制备方法
148. 一种多孔氮化硅陶瓷的制备方法
149. 一种泡沫氮化硅陶瓷的制备方法
150. 用于二氧化硅和氮化硅层的可印刷蚀刻介质
151. 一种氮化硅纳米线和纳米带的制备方法
152. 一种氮化硅纳米线的制备方法
153. 氮化硅的化学气相沉积方法
154. 以聚四氟乙烯为添加剂燃烧合成氮化硅粉体的方法
155. 控制氮化硅蚀刻槽的装置与方法
156. 碘辅助低温制备氮化硅纳米材料的方法
157. 一种氮化硅透波材料的制备方法
158. 一种碳氮化硅薄膜的制备方法
159. 碳氮化硅酸盐发光物质
160. 氮化硅粉体α相转相装置
161. 制备纳米氮化硅粉体的气相合成装置
162. 制备“无缺陷”氮化硅晶须的装置
163. 氮化硅涂层坩埚
164. 氮化硅结合碳化硅材料作侧衬砖的铝电解槽
165. 氮化硅陶瓷火焰进气预热装置
166. 工字型氮化硅结合碳化硅横梁
167. 氮化硅电热水器
168. 氮化硅发热装置
169. 带消音装置的氮化硅发热装置
170. 漏电安全型氮化硅发热体
171. 氮化硅电开水炉
172. 氮化硅电开水器
173. 氮化硅陶瓷点火装置
174. 设有环形应力缝的自结合碳化硅、氮化硅结合碳化硅棚板
175. 一种低温制备氮化硅粉体材料的方法
176. 铝电解槽侧墙用氮化硅结合碳化硅耐火砖及其制备方法
177. 增进氮化硅只读存储器的存储单元保持力的方法
178. 以氮化硅镁作为生长助剂燃烧合成制备β-氮化硅棒晶
179. 氮化硅-氮化硼-二氧化硅陶瓷透波材料及其制备方法
180. 一种造粒燃烧合成氮化硅的生产方法
181. 氮化硅质蜂窝式过滤器及其制造方法
182. 氮化硅质过滤器的制造方法
183. 氮化硅膜、半导体器件、显示器件及制造氮化硅膜的方法
184. 胶态成型制备氮化硅耐磨陶瓷的优化设计方法
185. 用化学蒸气沉积技术沉积氮化硅膜和氧氮化硅膜的方法
186. 高热导率、高强度氮化硅陶瓷制造方法
187. 用微波技术快速烧结氮化硅结合碳化硅耐火材料的方法
188. 钎焊氮化硅陶瓷的钎料及以该钎料连接氮化硅陶瓷的方法
189. 处理包含含氧氮化硅介质层的半导体器件的方法
190. 高精度热压氮化硅陶瓷球轴承及其制造方法
191. 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
192. 以氮化硅镁为烧结助剂的高热导氮化硅陶瓷的制备方法
193. 一种高硬度氮化硅陶瓷的低温烧结方法
194. 一种氮化硅/碳化硅多孔陶瓷的制备方法
195. 常压燃烧合成氮化硅粉体的方法
196. 一种氮化硅陶瓷部件的微加工方法
197. 化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法
198. 玻璃包覆热等静压制备高性能氮化硅陶瓷
199. 控温活化自蔓延燃烧合成α相氮化硅粉体的方法
200. 氮化硅的模型配件和制造这种模型配件的方法
201. 用于电致发光显示器的氧氮化硅钝化的稀土激活硫代铝酸盐磷光体
202. 由热化学气相沉积制造氮化硅薄膜和氮氧化硅薄膜的方法
203. 氮化硅和碳化硅一维纳米结构及其制备方法
204. 氮化硅只读存储元件的操作方法
205. 氮化硅只读存储器的制造方法
206. 多孔氮化硅陶瓷及其生产方法
207. 定义氧化硅/氮化硅/氧化硅介电层的方法
208. 降低第二位效应的氮化硅只读存储单元及其制造方法
209. 制造氮化硅只读存储器的方法
210. 制备纳米氮化硅粉体的气相合成装置
211. 制备纳米氮化硅粉体的系统
212. 一种氮化硅燃烧合成过程中增压调控的生产方法
213. 氮化硅只读存储器及其制造方法
214. 制造氮化硅只读存储器的方法
215. 氮化硅只读存储器及其制造方法
216. 一种提高氮化硅陶瓷抗氧化性能的表面改性方法
217. 制造具有氧化硅/氮化硅/氧化硅层的半导体组件的方法
218. 氮化硅耐磨部件及其制造方法
219. 一种含氮化硅铁的免烘烤铁沟捣打料
220. 一种含氮化硅铁的AlO-SiC-C体系无水炮泥
221. 双终点检测控制STICMP工艺氮化硅厚度稳定性的方法
222. 一种控制STICMP工艺中残余氮化硅厚度稳定性的方法
223. 解决湿法剥离氮化硅薄膜新的清洗溶液
224. 移除氮化硅层的方法
225. 蚀刻氮化硅薄膜的设备及方法
226. 自蔓延高温合成氮化硅镁粉体的制备方法
227. 由硅化镁燃烧合成氮化硅镁粉体的制备方法
228. 高强度、低介电常数的二氧化硅结合的氮化硅多孔陶瓷及制备方法
229. 一种高热导氮化硅陶瓷的制备方法
230. 一种纳米氮化硅抛光组合物及其制备方法
231. 一种氮化硅多孔陶瓷及其制备方法
232. 多阶氮化硅只读记忆胞的程序化方法
233. 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的多步方法
234. 具有锗化硅材料和受应力氮化硅层的衬底
235. 氮化硅薄膜及其制造方法
236. 控温燃烧合成α相氮化硅粉体的方法
237. 借由控制膜层生成前驱物来控制所沉积氮化硅膜的性质及均一性的方法
238. 氮化硅层的形成方法
239. 氮化硅电荷捕获存储器件
240. 晶界相中添加纳米氮化硅提高钕铁硼工作温度和耐蚀性方法
241. 一种具有高抗氧化性能的氮化硅陶瓷及其制备方法
242. 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的组合物和方法
243. 形成高质量的低温氮化硅层的方法和设备
244. 形成高质量的低温氮化硅膜的方法和设备
245. 一种半透明氮化硅陶瓷及其制备方法
246. 包括两个氮化硅蚀刻步骤的填充隔离槽的双后撤方法
247. 半导体集成电路硅单晶片衬底背面氮化硅层的新腐蚀方法
248. 蚀刻氮化硅薄膜的设备及方法
249. 氮化硅膜的沉积制造方法及沉积系统
250. 利用具有氨的超低压快速热退火调节氧氮化硅的氮分布曲线
251. 一种氮化硅—碳化钛复合材料的制备方法
252. 一种珠状碳化硅或氮化硅纳米链的制备方法
253. 带有氮化硅陶瓷叶轮、导叶的注水泵及其制作方法
254. 一种氮化硅铁的微波合成方法
255. 氮化硅锰铁合金
256. 一种自增韧氮化硅陶瓷导卫辊及其制备方法
257. 利用流化床技术常压连续合成氮化硅粉末的方法
258. 一种自增韧氮化硅陶瓷线材精轧辊材料及其制备方法
259. 一种原位增韧氮化硅基陶瓷及其超快速烧结方法
260. 一种高性能热处理氮化硅陶瓷及其制备方法
261. 用于选择性抛光氮化硅层的组合物以及使用该组合物的抛光方法
262. 一种β-氮化硅粉体材料的一步反应低温制备方法
263. 一种中空式环状布料燃烧合成均质氮化硅粉体的方法
264. 一种层状布料燃烧合成均质氮化硅粉体的方法
265. 采用纳米碳管模板法制备氮化硅纳米丝的方法
266. 一种磷酸作为添加剂的氮化硅多孔陶瓷材料的制备方法
267. 氮化硅膜的制造方法
268. 一种低温化学气相沉积制备氮化硅薄膜的方法
269. 使用原子层沉积法的氮化硅膜的形成方法
270. 具有高导热性的氮化硅烧结体及氮化硅结构部件
271. 氮化硅质烧结体及其制造方法,和使用其的耐熔融金属用构件、耐磨损用构件
272. 一种氮化硅膜的生长方法
273. 氮化硅耐磨部件及其制造方法
274. 氮化硅陶瓷粉末的生产方法
275. 氧化硅和氧氮化硅的低温沉积
276. 氮化硅发热体以及其无压低温烧结制备方法
277. 氮化硅结合SiC耐火材料及其制造方法
278. 形成含氘化氮化硅的材料的方法
279. 高纯氮化硅超细粉磨技术
280. 反应烧结氮化硅粉技术
281. 新型半石墨化碳氮化硅砖及其制造方法
282. 氮化硅只读存储单元的位的读取方法
283. 氮化硅膜形成方法及装置
284. 快速制备高强度氮化硅-氮化硼可加工陶瓷的方法
285. 制作半导体元件的方法和选择性蚀刻氮化硅层的方法
286. 形成高质量低温氮化硅层的方法和设备
287. 基于氮化硅镂空掩模的纳米电极制备方法
288. 氮化硅的热化学气相沉积
289. 氮化硅陶瓷细长工件的生产工艺技术
290. 具有氮化硅-氧化硅介电层的非挥发性记忆元件
291. 在基片处理过程中选择性蚀刻氮化硅的系统和方法
292. 应力被调节的单层氮化硅膜及其沉积方法
293. 一种氮化硅纳米材料的制备方法
294. 一种氮化硅/氮化钛纳米复合材料的制备方法
295. 一种超薄氮化硅/二氧化硅叠层栅介质的制备方法
296. 每单元二位与非门氮化硅陷获存储器
297. 氮化硅层的制作方法和自对准金属硅化物层的制作方法
298. 采用PECVD由氨基硅烷制备氮化硅
299. 高精度圆形长棒氮化硅陶瓷制造方法
300. 一种热等静压氮化硅全陶瓷电主轴及其制造方法
301. 交直流两用节能防静电恒温氮化硅电烙铁
302. 一种无内圈式热等静压氮化硅全陶瓷球轴承及其制造方法
303. 氮化硅层的制造方法及半导体元件的制造方法
304. 氮化硅纳米线和纳米带粉体材料的制备方法
305. 含有氮化硅的耐久性硬质涂层
306. 用于制备氮化硅间隔物结构的方法
307. 一种氮化硅非水基流延浆料及其制备方法
308. 制备氮化硅叠层的方法
309. 一种去除硅片背面氮化硅的方法
310. 用于制备受控应力的氮化硅膜的方法
311. 立方氮化硅材料的冲击波合成方法及合成装置
312. 流化床直接制取氮化硅的装置及其方法
313. 具有控制应力的氮化硅膜
314. 用于制造晶体管的低热预算氮化硅膜及其制备方法
315. 制备氮化硅膜的方法
316. 高强度氮化硅多孔陶瓷透波材料及其制备方法
317. G级氮化硅球加工工艺
318. 含立方氮化硅粉体的陶瓷及其制备方法
319. 用于氮化硅陶瓷及氮化硅陶瓷基复合材料钎焊的高温钎料
320. 无氧溶胶-凝胶反应制备致密碳氮化硅陶瓷的方法
321. 逆反应烧结制备氮化硅碳化硅复合材料的方法
322. 无氧溶胶-凝胶反应制备多孔碳氮化硅的方法
323. 用于对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
324. 用于高的氮化硅对氧化硅去除速率比率的抛光组合物及方法
325. 一种高强度、高韧性的氮化硅陶瓷液相烧结法
326. 基于碳化硅与氮化硅粘合剂的烧结耐火砖
327. 在真空中涂覆氮化硅薄膜的方法
328. 具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
329. 原子层沉积形成氮化硅氧化阻挡层的方法
330. 化学激励燃烧合成氮化硅/碳化硅复合粉体的方法
331. 一种改性纳米氮化硅粉体及其制备方法和用途
332. 氮化硅基复合材料燃烧合成方法
333. 通过添加碳降低氮化硅蚀刻速率的方法
334. 用于二氧化硅和氮化硅层的蚀刻的可印刷介质
335. 氮化硅陶瓷连杆衬套及其制备方法
336. 高热导率氮化硅陶瓷材料及其制备方法
337. 电子回旋共振等离子体化学汽相淀积氮化硅薄膜的方法
338. 去除硅片背面氮化硅膜的方法
339. 氮化硅涂层钢领及其制备方法
340. 形成用于CMOS器件的自对准的双氮化硅衬垫的方法
341. 一种氮化硅多孔陶瓷组方及制备方法
342. 用来在不存在氮化硅的条件下进行硅的KOH蚀刻的负性光刻胶
343. 一种低温制备氮化硅粉体材料的方法
344. 一种氮化硅陶瓷颗粒增强铝基复合材料及其制备方法
345. 平板氮化硅薄膜PECVD沉积系统
346. 钎焊氮化硅陶瓷的钎料及钎焊氮化硅陶瓷的方法
347. 高α-SiN相氮化硅制备方法
348. 用来改变氧化硅和氮化硅膜的介电性能的有机硅烷化合物
349. 自蔓燃合成法制备高β相氮化硅棒状晶须的方法
350. 掺杂氮化硅薄膜的低温沉积方法及装置
351. 氮化硅纳米材料的低温固相反应制备
352. 氮化硅膜、半导体装置及其制造方法
353. 氮化硅膜的干刻蚀方法
354. 一种纳米氮化硅陶瓷粉体的制备方法
355. 一种氮化硅复合陶瓷发热体
356. 一种适合氮化硅晶须生长的方法
357. 多孔氮化硅-二氧化硅透波材料的制备方法
358. 一种氮化硅纳米粉末合成方法
359. 亚微米级斜方氮化硅镁多晶体陶瓷粉末的制备方法
360. 氮化硅/氧化硅双层增透保护薄膜的制备方法
361. 用于抛光氮化硅的组合物及方法
362. 去除缺陷膜层及形成氧化硅-氮化硅-氧化硅侧墙的方法
363. 氮化硅薄膜及接触刻蚀停止层的形成方法
364. 用于溅镀张力氮化硅膜的系统和方法
365. 制备氮化硅的方法
366. 制备氮化硅陶瓷发热体的凝胶注模成型工艺方法
367. 氮化硅间隙填充层及其形成方法
368. 氮化锆-氮化硅复合粉体的制备方法
369. 一种基于碳热还原制备无晶界相多孔氮化硅陶瓷的方法
370. 一种基于渗硅氮化制备无晶界相多孔氮化硅陶瓷的方法
371. 氮化硅只读存储器及其字线的制造方法
372. 氮化硅湿法腐蚀方法
373. 多晶硅太阳能电池铸锭用石英坩埚的氮化硅喷涂方法
374. 低压下在石英坩埚内壁上喷涂氮化硅涂层的方法及装置
375. 一种以磷酸盐为烧结助剂的氮化硅基复合陶瓷及制备方法
376. 根据氮化硅薄膜应力校准薄膜沉积机台中机械手位置的方法
377. 自蔓燃制备低氧含量高α-相氮化硅粉体的方法
378. 可减小金属前介质层中空洞形成概率的氮化硅制作方法
379. 氮化硅膜湿法腐蚀工艺方法
380. 一种采用氮化硅(SiN)和掺磷氧化硅(PSG)复合薄
381. 等离子体CVD方法、氮化硅膜的形成方法和半导体装置的制造方法
382. 等离子体CVD方法、氮化硅膜的形成方法、半导体装置的制造方法和等离子体CVD装置
383. 纳米氮化硅/环氧基硅烷/氰酸酯树脂复合材料及其制备方法
384. 纳米氮化硅/双马来酰亚胺树脂/氰酸酯树脂复合材料及其制备方法
385. 通过化学汽相淀积使氮化硅膜和/或氧氮化硅膜淀积的方法
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氮化硼的制备方法及应用专利技术资料
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